Parece que a Intel está focada em avançar ainda mais no seu processo de litografia e produzir chips cada vez menores e mais eficientes em termos de energia.
A empresa planeja lançar as tecnologias 3, 20A e 18A nos próximos anos e produzir pelo menos a primeira parte dos componentes em massa no próximo ano fiscal.
Com a adoção da litografia EUV, a Intel espera reduzir a porcentagem de PPW (porcentagem por watts) para 18%, o que pode melhorar significativamente a eficiência energética dos seus produtos.
A azulzinha também está trabalhando na sua linha 4 com os originais 7nm, utilizados na Meteor Lake e Granite Rapids. De acordo com relatórios obtidos pela Huai Technology, a Intel planeja levar as futuras máquinas fabricadas pela ASML ao limite para produzir processadores de 1.8nm.
A marca espera que a versão de 1.4nm esteja pronta para sair junto com a futura geração 14A. E, em 2028, a empresa espera trabalhar com a tecnologia de forma útil para trazer o 1.0nm.
